发明授权
- 专利标题： 一种化学机械抛光液
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申请号： CN201310731761.X申请日： 2013-12-26
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公开(公告)号： CN104745094B公开(公告)日： 2018-09-14
- 发明人: 戴程隆 , 荆建芬
- 申请人： 安集微电子(上海)有限公司
- 申请人地址： 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室
- 专利权人： 安集微电子(上海)有限公司
- 当前专利权人： 安集微电子(上海)有限公司
- 当前专利权人地址： 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室
- 代理机构： 北京大成律师事务所
- 代理商 李佳铭
- 主分类号： C09G1/02
- IPC分类号： C09G1/02 ; H01L21/306
摘要：
本发明涉及一种化学机械抛光液，包含研磨颗粒、有机胺和氧化剂。通过加入有机胺，克服了硅基材料在过氧化氢存在下的去除速率降低的问题。该抛光液同时具有对硅和铜的很高的抛光速率。同时，加入有机磷酸能够有效延缓双氧水在有机胺体系中的降解，显著增加抛光液的稳定性，具有较长的存储时间和在线使用寿命(pot life)。
公开/授权文献
- CN104745094A 一种化学机械抛光液 公开/授权日：2015-07-01
