- 专利标题: 适于光学耦合层的包含表面改性高折射率纳米粒子的组合物
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申请号: CN201380011419.0申请日: 2013-02-11
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公开(公告)号: CN104662689B公开(公告)日: 2017-06-27
- 发明人: 郝恩才 , 乔纳森·A·阿尼姆-阿多 , 居伊·D·乔利 , 谢尔盖·拉曼斯基 , 詹姆斯·P·迪齐奥
- 申请人: 3M创新有限公司
- 申请人地址: 美国明尼苏达州
- 专利权人: 3M创新有限公司
- 当前专利权人: 3M创新有限公司
- 当前专利权人地址: 美国明尼苏达州
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 陈源; 崔利梅
- 优先权: 61/604,169 20120228 US
- 国际申请: PCT/US2013/025511 2013.02.11
- 国际公布: WO2013/130247 EN 2013.09.06
- 进入国家日期: 2014-08-28
- 主分类号: H01L51/52
- IPC分类号: H01L51/52 ; H01L51/56
摘要:
本发明描述一种将光学膜耦合至基底的方法、包含光学膜和设置在所述光学膜的表面层上的光学耦合层的层合的光学构造、以及可用于光学耦合层的涂料组合物。所述涂料组合物包含至少40wt.‑%的无机纳米粒子和聚合硅烷表面处理剂,所述无机纳米粒子具有至少1.85的折射率。
公开/授权文献
- CN104662689A 适于光学耦合层的包含表面改性高折射率纳米粒子的组合物 公开/授权日:2015-05-27
IPC分类: