发明授权
- 专利标题: 构造成型体的方法
-
申请号: CN201380045691.0申请日: 2013-08-21
-
公开(公告)号: CN104619478B公开(公告)日: 2016-10-12
- 发明人: J·斯代姆普夫尔 , J·奥马 , J·帕特瑟尔 , G·米特阿斯克格勒 , J·艾伯特 , J·劳伯舒曼 , W·瓦赫特
- 申请人: 义获嘉伟瓦登特公司 , 维也纳科技大学
- 申请人地址: 列支敦士登沙恩
- 专利权人: 义获嘉伟瓦登特公司,维也纳科技大学
- 当前专利权人: 义获嘉伟瓦登特公司,维也纳科技大学
- 当前专利权人地址: 列支敦士登沙恩
- 代理机构: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司
- 代理商 胡强
- 优先权: 12182047.6 2012.08.28 EP
- 国际申请: PCT/EP2013/067375 2013.08.21
- 国际公布: WO2014/033027 DE 2014.03.06
- 进入国家日期: 2015-03-02
- 主分类号: B29C67/00
- IPC分类号: B29C67/00
摘要:
本发明涉及借助基于平版印刷术的生成制造法由光聚合性材料构造成型体的方法(10),其中,连续的多个层在构造平台上被曝光硬化而具有预定轮廓,直至通过一系列硬化层来形成具有预定形状的成型体(10),其中每次曝光通过来自曝光元件二维阵列的曝光元件的单独可控激活进行,每个曝光元件对应于一个像素,所述曝光区域的曝光通过共同的光源和被光源照射的、具有单独可控的强度调制器栅格的二维光强度调制器进行,从而使每个被照射的强度调制器形成一个曝光在曝光区域中的一个像素的曝光元件,为每个曝光步骤建立一个二维阵,该阵的每个元素对应于来自曝光元件阵列的一个曝光元件并包含用于这个曝光元件的呈时间相关函数形式的控制命令,该函数单独确定在曝光步骤期间这个曝光元件的辐射强度分布,其中,只要在曝光步骤中待激活的曝光元件的强度分布的所有时间相关函数的共同的强度变化部分作为一般强度变化存在,则通过根据所述一般强度变化控制光源强度来实现所述一般强度变化。
公开/授权文献
- CN104619478A 构造成型体的方法 公开/授权日:2015-05-13