发明授权
CN104597550B 一种线性渐变滤光片中间楔形谐振腔层的制备方法
失效 - 权利终止
摘要:
本发明涉及一种线性渐变滤光片中间楔形谐振腔层的制备方法,通过在离子束出射窗口和待加工样片之间垂直于离子束出射方向放置开三角形窗口的挡板,沿离子束出射方向三角形顶部与样片一端重合,离子束刻蚀时,样片以某一恒定速率来回运动,经过一定的刻蚀遍数后,可获得垂直于样品运动方向上的厚度差异,获得设计的楔形间隔层。离子束刻蚀之前需先标定中间层介质材料的刻蚀速率,通过调节离子束刻蚀的参数在一定范围内调节获得合适的材料刻蚀速率。相对于现有楔形谐振腔层腔制备方法具有制作过程简易、工艺操作简单、成品率高、膜厚控制较为精确、可批量生产等优点,有利于降低以线性渐变滤光片为核心分光组件的微型光谱仪的生产成本。
公开/授权文献
- CN104597550A 一种线性渐变滤光片中间楔形谐振腔层的制备方法 公开/授权日:2015-05-06