发明授权
- 专利标题: 非磁性物质分散型Fe‑Pt基溅射靶
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申请号: CN201380035320.4申请日: 2013-08-21
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公开(公告)号: CN104411862B公开(公告)日: 2017-07-18
- 发明人: 佐藤敦
- 申请人: 吉坤日矿日石金属株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 吉坤日矿日石金属株式会社
- 当前专利权人: 吉坤日矿日石金属株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 王海川; 穆德骏
- 优先权: 2012-235693 20121025 JP
- 国际申请: PCT/JP2013/072249 2013.08.21
- 国际公布: WO2014/064995 JA 2014.05.01
- 进入国家日期: 2014-12-31
- 主分类号: C23C14/34
- IPC分类号: C23C14/34 ; G11B5/851
摘要:
一种烧结体溅射靶,该烧结体溅射靶包含:组成包含以分子数比计35~55%的Pt、余量为Fe的合金,和分散在该合金中的非磁性物质,其特征在于,至少含有SiO2作为非磁性物质,SiO2为非晶质,并且从靶中含有的氧量扣除非磁性物质的构成成分的氧而得到的残留氧量为0.07重量%以下。本发明的课题在于提供抑制SiO2向方英石的结晶化、溅射时产生的粉粒量少、并且具有包含SiO2的非磁性物质分散在Fe‑Pt基合金中的组织的烧结体溅射靶。
公开/授权文献
- CN104411862A 非磁性物质分散型Fe-Pt基溅射靶 公开/授权日:2015-03-11
IPC分类: