发明授权
- 专利标题: 阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置
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申请号: CN201410602733.2申请日: 2014-10-31
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公开(公告)号: CN104393017B公开(公告)日: 2017-12-15
- 发明人: 刘政 , 陆小勇 , 李小龙 , 刘建宏 , 龙春平
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 腾一斌
- 主分类号: H01L27/32
- IPC分类号: H01L27/32
摘要:
本发明提供了一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置,该阵列基板的制作方法包括:在衬底基板上方形成第一金属薄膜;对所述第一金属薄膜进行图案化处理,在所述衬底基板的第一区域上方形成阴极的图形,在所述衬底基板的第二区域上方形成栅极的图形。本发明通过一次构图工艺将发光二极管的阴极层与薄膜晶体管的栅极层同时形成在衬底基板的不同区域,能够减少阵列基板制作工艺的复杂度和工艺时间,简化有机电致发光面板的制作工序,降低制作成本。
公开/授权文献
- CN104393017A 阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置 公开/授权日:2015-03-04
IPC分类: