发明授权
- 专利标题： 化学研磨装置
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申请号： CN201380021332.1申请日： 2013-05-29
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公开(公告)号： CN104379526B公开(公告)日： 2016-12-28
- 发明人: 西山荣
- 申请人： 株式会社NSC
- 申请人地址： 日本国大阪府丰中市利仓1丁目1番1号
- 专利权人： 株式会社NSC
- 当前专利权人： 株式会社NSC
- 当前专利权人地址： 日本国大阪府丰中市利仓1丁目1番1号
- 代理机构： 北京汇思诚业知识产权代理有限公司
- 代理商 龚敏; 王刚
- 优先权： 2012-128516 2012.06.06 JP
- 国际申请： PCT/JP2013/064835 2013.05.29
- 国际公布： WO2013/183504 JA 2013.12.12
- 进入国家日期： 2014-10-22
- 主分类号： C03C15/00
- IPC分类号： C03C15/00
摘要：
本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)具备多个搬送辊(50)以及处理室(16、18、20、22)，多个搬送辊(50)构成为在水平方向搬送玻璃基板，处理室(16、18、20、22)构成为对由多个搬送辊(50)搬送的玻璃基板进行化学研磨处理。处理室(16、18、20、22)至少具有处理槽(161)与回收槽(162)。处理槽(161)构成为在与由搬送辊(50)搬送的玻璃基板相比更高位置溢出化学研磨液。回收槽(162)构成为回收从处理槽(161)溢出的化学研磨液。
公开/授权文献
- CN104379526A 化学研磨装置 公开/授权日：2015-02-25
