本发明提供了一种无掩模曝光设备及其设备信号回馈控制方法，所述无掩膜曝光设备包括：曝光光照装置，用于提供曝光束；空间光调制器，根据曝光图案调整曝光束，并将非用于曝光的光束排斥掉；信号回馈控制装置，采集所述空间光调制器排斥掉的非用于曝光的光束，经计算后，用于控制所述空间光调制器。本发明通过探测器的设置，采集和探测了未被空间光调制器投射到曝光对象上的曝光束，进而能够据此对空间光调制器投射的曝光图案进行监控和反馈，一方面充分利用了这部分能量，不至于浪费，另一方面使得曝光图案的正确性得到了保证，有利于最后的成像质量。解决了如何实现在曝光过程中对空间光调制器投射的曝光图案进行监控和反馈的技术问题。