发明授权
- 专利标题: 电子设备用石墨导热片的制备工艺
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申请号: CN201410487442.3申请日: 2012-12-28
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公开(公告)号: CN104291311B公开(公告)日: 2016-06-15
- 发明人: 金闯 , 杨晓明
- 申请人: 苏州斯迪克新材料科技股份有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市太仓市板桥镇洛阳东路221号
- 专利权人: 苏州斯迪克新材料科技股份有限公司
- 当前专利权人: 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市太仓市板桥镇洛阳东路221号
- 代理机构: 苏州创元专利商标事务所有限公司
- 代理商 马明渡; 王健
- 分案原申请号: 2012105808241 2012.12.28
- 主分类号: C01B31/02
- IPC分类号: C01B31/02
摘要:
本发明公开一种电子设备用石墨导热片的制备工艺,包括以下步骤:将聚酰胺酸溶液中加入乙二醇,充分搅拌后涂覆于一玻璃基材层上;放置于真空环境的烘箱中,100℃恒温0.9~1.1小时,然后升温到300℃,恒温0.9小时后自然冷却,从而获得聚酰亚胺薄膜;将聚酰亚胺薄膜在惰性气体保护下,从室温升温至250℃,保持0.9~1.1小时,然后升温至500℃,保持1小时;然后升至800℃,保持0.9~1.1小时;再升温至1200℃,保存0.9~1.1小时后冷却,从而获得预烧制的碳化膜;采用压延机压延所述步骤四的预烧制的碳化膜。本发明在垂直方向和水平方向均提高了导热性能,避免了局部过热,导热速度快,形成双向拉伸、高模量的石墨层。
公开/授权文献
- CN104291311A 电子设备用石墨导热片的制备工艺 公开/授权日:2015-01-21