发明公开
CN104264132A 一种涂层导体单缓冲层及其制备方法
无效 - 撤回
- 专利标题: 一种涂层导体单缓冲层及其制备方法
- 专利标题(英): Single buffer layer of coated conductor and preparation method of single buffer layer
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申请号: CN201410476579.9申请日: 2014-09-18
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公开(公告)号: CN104264132A公开(公告)日: 2015-01-07
- 发明人: 金利华 , 于泽铭 , 冯建情 , 李成山 , 王耀 , 张平祥
- 申请人: 西北有色金属研究院
- 申请人地址: 陕西省西安市未央路96号
- 专利权人: 西北有色金属研究院
- 当前专利权人: 西北有色金属研究院
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市未央路96号
- 代理机构: 西安创知专利事务所
- 代理商 谭文琰
- 主分类号: C23C18/12
- IPC分类号: C23C18/12 ; H01B12/06 ; H01B13/00
摘要:
本发明公开了一种涂层导体单缓冲层,化学组成为LaZrxCeyOδ,其中x的取值为1~2,y的取值为0.2~2,δ=1.5+2x+2y。另外,本发明还公开了该涂层导体单缓冲层的制备方法。本发明的单缓冲层既能阻隔金属离子扩散,又能传递织构,可以起到多层缓冲层的作用。本发明通过改变前驱体组份调节单缓冲层的晶格参数,使之更易于生长;能够更好与超导层的晶格参数匹配;同时LaZrxCeyOδ单缓冲层表面析出少量纳米点可以诱导超导层的生长。采用本发明的方法制备的LaZrxCeyOδ单缓冲层具有锐利的立方取向,表面光滑平整、无裂纹,有利于外延生长超导层。
IPC分类: