Invention Publication
- Patent Title: PNbZT铁电薄膜的制造方法和复合电子部件
- Patent Title (English): Method of forming PNbZT ferroelectric thin film and composite electronic element
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Application No.: CN201410057519.3Application Date: 2014-02-19
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Publication No.: CN104072135APublication Date: 2014-10-01
- Inventor: 土井利浩 , 樱井英章 , 曽山信幸
- Applicant: 三菱综合材料株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 三菱综合材料株式会社
- Current Assignee: 三菱综合材料株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 北京德琦知识产权代理有限公司
- Agent 康泉; 王珍仙
- Priority: 2013-063179 2013.03.26 JP
- Main IPC: C04B35/493
- IPC: C04B35/493 ; C04B35/491 ; C04B35/622 ; H01B3/12 ; H01G4/12 ; H01G4/33 ; C30B29/32

Abstract:
本发明提供一种PNbZT铁电薄膜的制造方法和复合电子部件。该方法中,将用于形成不含Nb的PZT铁电薄膜的组合物涂布在形成于基板(10)的下部电极(11)上,预烧结后,进行烧成来使其结晶化,从而形成厚度45~90nm的结晶化促进层(12),在上述形成的结晶化促进层(12)上涂布用于形成PNbZT铁电薄膜的组合物来形成PNbZT的涂膜(13a),对该涂膜(13a)进行预烧结后,进行烧成来使其结晶化,从而在上述下部电极(11)上形成PNbZT铁电薄膜,其中,在所述PNbZT铁电薄膜中,与组合物中所含的钙钛矿B位原子即Zr及Ti的总计100原子%中含有4~10原子%的Nb。
Public/Granted literature
- CN104072135B PNbZT铁电薄膜的制造方法和复合电子部件 Public/Granted day:2018-04-20
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