PNbZT铁电薄膜的制造方法和复合电子部件
Abstract:
本发明提供一种PNbZT铁电薄膜的制造方法和复合电子部件。该方法中,将用于形成不含Nb的PZT铁电薄膜的组合物涂布在形成于基板(10)的下部电极(11)上,预烧结后,进行烧成来使其结晶化,从而形成厚度45~90nm的结晶化促进层(12),在上述形成的结晶化促进层(12)上涂布用于形成PNbZT铁电薄膜的组合物来形成PNbZT的涂膜(13a),对该涂膜(13a)进行预烧结后,进行烧成来使其结晶化,从而在上述下部电极(11)上形成PNbZT铁电薄膜,其中,在所述PNbZT铁电薄膜中,与组合物中所含的钙钛矿B位原子即Zr及Ti的总计100原子%中含有4~10原子%的Nb。
Public/Granted literature
Patent Agency Ranking
0/0