Invention Grant
- Patent Title: 电子照相感光构件的制造方法
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Application No.: CN201410020576.4Application Date: 2014-01-16
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Publication No.: CN103941553BPublication Date: 2017-11-03
- Inventor: 杉山和道 , 田中大介 , 西田孟
- Applicant: 佳能株式会社
- Applicant Address: 日本东京都大田区下丸子3丁目30番2号
- Assignee: 佳能株式会社
- Current Assignee: 佳能株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都大田区下丸子3丁目30番2号
- Agency: 北京魏启学律师事务所
- Agent 魏启学
- Priority: 2013-007477 2013.01.18 JP
- Main IPC: G03G5/00
- IPC: G03G5/00
Abstract:
本发明涉及电子照相感光构件的制造方法、处理盒和电子照相设备。提供一种包括支承体和在所述支承体上形成的表面层的电子照相感光构件的制造方法，所述方法包括表面层用涂布液的涂膜的形成步骤和干燥涂膜以形成表面层，其中所述表面层用涂布液包含树脂α、树脂β、溶剂γ和化合物δ。
Public/Granted literature
- CN103941553A 电子照相感光构件的制造方法、处理盒和电子照相设备 Public/Granted day:2014-07-23
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