发明授权
CN103608368B 高分子多孔质膜和高分子多孔质膜的制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 高分子多孔质膜和高分子多孔质膜的制造方法
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申请号： CN201280029849.0申请日： 2012-06-20
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公开(公告)号： CN103608368B公开(公告)日： 2016-08-17
- 发明人: 盐谷优子 , 田中义人 , 三木淳
- 申请人： 大金工业株式会社
- 申请人地址： 日本大阪府大阪市
- 专利权人： 大金工业株式会社
- 当前专利权人： 大金工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本大阪府大阪市
- 代理机构： 北京三友知识产权代理有限公司
- 代理商 庞东成; 张志楠
- 优先权： 2011-138571 2011.06.22 JP; 2012-005120 2012.01.13 JP; 2012-005121 2012.01.13 JP
- 国际申请： PCT/JP2012/065761 2012.06.20
- 国际公布： WO2012/176810 JA 2012.12.27
- 进入国家日期： 2013-12-17
- 主分类号： C08F214/22
- IPC分类号： C08F214/22 ; B01D71/34 ; B01D71/36 ; C08F8/00 ; C08F214/26 ; C08J9/28
摘要：
本发明的目的在于提供透水性及耐碱性优异、同时具有优异的机械强度的高分子多孔质膜。本发明高分子多孔质膜的特征在于，其含有具有偏二氟乙烯单元和四氟乙烯单元的含氟聚合物(A)。
公开/授权文献
- CN103608368A 高分子多孔质膜和高分子多孔质膜的制造方法 公开/授权日：2014-02-26
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