发明授权
CN103316653B 一种一维单晶刚性分子印迹ZnO电极的制备方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种一维单晶刚性分子印迹ZnO电极的制备方法
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申请号: CN201210075273.3申请日: 2012-03-20
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公开(公告)号: CN103316653B公开(公告)日: 2015-07-29
- 发明人: 赵国华 , 农馥俏 , 张亚男 , 柴守宁
- 申请人: 同济大学
- 申请人地址: 上海市杨浦区四平路1239号
- 专利权人: 同济大学
- 当前专利权人: 同济大学
- 当前专利权人地址: 上海市杨浦区四平路1239号
- 代理机构: 上海科盛知识产权代理有限公司
- 代理商 林君如
- 主分类号: B01J23/06
- IPC分类号: B01J23/06 ; B01J37/10 ; C02F1/32 ; C02F1/58
摘要:
本发明涉及一种一维单晶刚性分子印迹ZnO电极的制备方法,在经阳极氧化预处理的钛板上通过晶种诱导低温水热法可控地生长具有目标物质分子印迹识别位点的ZnO纳米电极,并将其应用于相应的目标物质-非目标物质体系的选择性光催化氧化。与现有技术相比,本发明直接在ZnO无机材料表面构筑目标物质的识别位点,避免了由传统聚合物构筑的印迹膜在实际应用中存在的遮光和自身被降解的问题;又保证了材料本身一定的刚性和机械强度,使得目标物质结合位点可接近性强,印迹表达效果好。该电极制备工艺简单、制作成本低廉,具有一定的普适性和广泛的经济和社会效益。
公开/授权文献
- CN103316653A 一种一维单晶刚性分子印迹ZnO电极的制备方法 公开/授权日:2013-09-25