用于控制物体的温度的设备及设施
Abstract:
本发明涉及一种用于在清洁处理之后控制物体、具体地是工件(16)的温度的设备(10),所述设备具有被形成为冷却区和/或加热区的温控区(14),气态流体能够在该温控区中绕所述物体循环。根据本发明,所述温控区(14)被形成在腔室(12)中,所述腔室(12)能够经受引入到所述腔室(12)中的流体流(58)。
Public/Granted literature
Patent Agency Ranking
0/0