发明授权
- 专利标题： 光源装置
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申请号： CN201210567628.0申请日： 2012-12-24
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公开(公告)号： CN103187683B公开(公告)日： 2017-05-24
- 发明人: 笹室岳 , 松尾英典
- 申请人： 日亚化学工业株式会社
- 申请人地址： 日本德岛县
- 专利权人： 日亚化学工业株式会社
- 当前专利权人： 日亚化学工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本德岛县
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 张宝荣
- 优先权： 2011-289831 20111228 JP 2012-122805 20120530 JP 2012-224306 20121009 JP
- 主分类号： H01S5/022
- IPC分类号： H01S5/022 ; H01S5/024 ; H01S5/40
摘要：
本发明提供一种使用了多个半导体激光器装置的且散热良好的光源装置。该光源装置使用了多个半导体激光器装置，且具备配置有所述多个半导体激光器装置的保持构件，所述多个半导体激光器装置之中的至少一个半导体激光器装置，按照与在正视所述保持构件时相邻的半导体激光器装置在光轴方向上的相对位置、比与所述相邻的半导体激光器装置在垂直于所述光轴方向的方向上的相对位置大的方式，被配置在所述保持构件上。
公开/授权文献
- CN103187683A 光源装置 公开/授权日：2013-07-03
