发明授权
CN103154319B 具有基于纳米二氧化硅的涂层和阻挡层的抗反射制品
失效 - 权利终止
- 专利标题: 具有基于纳米二氧化硅的涂层和阻挡层的抗反射制品
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申请号: CN201180047583.8申请日: 2011-09-30
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公开(公告)号: CN103154319B公开(公告)日: 2016-08-10
- 发明人: T·J·赫伯林克
- 申请人: 3M创新有限公司
- 申请人地址: 美国明尼苏达州
- 专利权人: 3M创新有限公司
- 当前专利权人: 3M创新有限公司
- 当前专利权人地址: 美国明尼苏达州
- 代理机构: 北京市金杜律师事务所
- 代理商 陈文平
- 优先权: 61/390,530 2010.10.06 US
- 国际申请: PCT/US2011/054200 2011.09.30
- 国际公布: WO2012/047749 EN 2012.04.12
- 进入国家日期: 2013-03-29
- 主分类号: C23C24/08
- IPC分类号: C23C24/08 ; H01L31/0216 ; H01L31/0236 ; H01L31/0203 ; H01L31/048 ; G02B5/02 ; G02B1/113 ; G02B27/00 ; B82Y40/00 ; B82Y30/00
摘要:
本发明提供了一种制品,所述制品包括具有抗反射结构化表面的透明基材和其上包含二氧化硅纳米粒子的多孔网络的烧结涂层,其中所述二氧化硅纳米粒子与相邻的二氧化硅纳米粒子粘结,其中所述结构化基材还包括背衬面,并有湿气阻挡层粘结至结构化基材的背衬面。
公开/授权文献
- CN103154319A 具有基于纳米二氧化硅的涂层和阻挡层的抗反射制品 公开/授权日:2013-06-12
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