发明授权
- 专利标题: 阵列基板及其制造方法、显示装置
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申请号: CN201210429977.6申请日: 2012-10-31
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公开(公告)号: CN103123910B公开(公告)日: 2016-03-23
- 发明人: 马占洁
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京路浩知识产权代理有限公司
- 代理商 韩国胜
- 主分类号: H01L21/77
- IPC分类号: H01L21/77 ; H01L27/12
摘要:
本发明属于显示技术领域,公开了一种阵列基板及其制造方法。该阵列基板的源极图案、漏极图案、像素电极图案和有源层图案是由一次构图工艺形成的,与传统阵列基板的制作工艺相比,工艺简单,缩短了生产时间,降低了产品成本,提高了产品质量。
公开/授权文献
- CN103123910A 阵列基板及其制造方法、显示装置 公开/授权日:2013-05-29
IPC分类: