发明授权
- 专利标题: 流体产品的分配设备的表面处理方法
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申请号: CN201180037701.7申请日: 2011-07-01
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公开(公告)号: CN103108981B公开(公告)日: 2015-11-25
- 发明人: P·布吕纳 , D·比萨多 , F·盖尔纳莱克
- 申请人: 阿普塔尔法国简易股份公司
- 申请人地址: 法国勒讷堡
- 专利权人: 阿普塔尔法国简易股份公司
- 当前专利权人: 阿普塔尔法国简易股份公司
- 当前专利权人地址: 法国勒讷堡
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 杨勇
- 优先权: 1055364 2010.07.02 FR; 10/02868 2010.07.08 FR
- 国际申请: PCT/FR2011/051552 2011.07.01
- 国际公布: WO2012/001330 FR 2012.01.05
- 进入国家日期: 2013-01-31
- 主分类号: C23C14/48
- IPC分类号: C23C14/48 ; A61F9/00 ; A61L2/16 ; C08J7/18 ; H01J37/317 ; A61J1/00 ; A61M15/00 ; B65D1/00
摘要:
本发明涉及流体产品分配设备的表面处理方法。该方法包括用多电荷且多能量的离子束通过离子植入对所述设备的至少一部分的至少一个待处理表面进行改性的步骤,改性的所述待处理表面具有抗摩擦性能。所述多电荷离子选自氦(He)、氮(N)、氧(O)、氖(Ne)、氩(Ar)、氪(Kr)、氙(Xe),离子植入进行至0至3μm的深度。
公开/授权文献
- CN103108981A 流体产品的分配设备的表面处理方法 公开/授权日:2013-05-15
IPC分类: