- 专利标题： 大型基板以及用于均匀抛光的大型基板的抛光方法
- 专利标题（英）： Large substrate, and polishing method of large substrate for uniform polishing
-
申请号： CN201180038080.4申请日： 2011-08-01
-
公开(公告)号： CN103052467A公开(公告)日： 2013-04-17
- 发明人: 闵庚勋 , 林艺勋 , 李大渊 , 宋在翊 , 朴寿赞
- 申请人： LG化学株式会社
- 申请人地址： 韩国首尔
- 专利权人： LG化学株式会社
- 当前专利权人： LG化学株式会社
- 当前专利权人地址： 韩国首尔
- 代理机构： 北京鸿元知识产权代理有限公司
- 代理商 许向彤
- 优先权： 10-2010-0074710 2010.08.02 KR
- 国际申请： PCT/KR2011/005657 2011.08.01
- 国际公布： WO2012/018215 KO 2012.02.09
- 进入国家日期： 2013-02-01
- 主分类号： B24B1/00
- IPC分类号： B24B1/00 ; B24B7/20 ; B24B49/00 ; H01L21/304
摘要：
根据本发明，在用于抛光大型板的方法中能够将大型板的中心与边缘的抛光量的差异减到最小。
公开/授权文献
- CN103052467B 大型板以及用于均匀地抛光大型板的方法 公开/授权日：2015-09-02
