使用具有空间选择性双折射减小的膜的掩模加工
摘要:
使用某些可图案化反射膜作为掩模来制备其他图案化制品,并可使用一个或多个初始掩模来对可图案化反射膜进行图案化。一种示例性的可图案化反射膜具有吸收特性,所述吸收特性适于在暴露于辐射束时以吸收方式以足以使第一反射特性改变为不同的第二反射特性的量加热膜的一部分。所述从第一向第二反射特性的改变归因于可图案化膜的一个或多个层或者一种或多种材料的双折射率改变。在一种有关的制品中,掩模被附加到这样的可图案化反射膜。所述掩模可具有不透明部分和透光性部分。此外,所述掩模可具有透光性部分,所述透光性部分具有例如聚焦元件和/或棱柱元件等结构。
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