发明授权
CN103038681B 使用具有空间选择性双折射减小的膜的掩模加工
失效 - 权利终止
- 专利标题: 使用具有空间选择性双折射减小的膜的掩模加工
-
申请号: CN201180037303.5申请日: 2011-06-29
-
公开(公告)号: CN103038681B公开(公告)日: 2016-09-28
- 发明人: 威廉·沃德·梅里尔 , 道格拉斯·S·邓恩
- 申请人: 3M创新有限公司
- 申请人地址: 美国明尼苏达州
- 专利权人: 3M创新有限公司
- 当前专利权人: 3M创新有限公司
- 当前专利权人地址: 美国明尼苏达州
- 代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 梁晓广; 关兆辉
- 优先权: 61/360,129 2010.06.30 US
- 国际申请: PCT/US2011/042368 2011.06.29
- 国际公布: WO2012/012177 EN 2012.01.26
- 进入国家日期: 2013-01-29
- 主分类号: G02B5/30
- IPC分类号: G02B5/30 ; G02B5/28
摘要:
使用某些可图案化反射膜作为掩模来制备其他图案化制品,并可使用一个或多个初始掩模来对可图案化反射膜进行图案化。一种示例性的可图案化反射膜具有吸收特性,所述吸收特性适于在暴露于辐射束时以吸收方式以足以使第一反射特性改变为不同的第二反射特性的量加热膜的一部分。所述从第一向第二反射特性的改变归因于可图案化膜的一个或多个层或者一种或多种材料的双折射率改变。在一种有关的制品中,掩模被附加到这样的可图案化反射膜。所述掩模可具有不透明部分和透光性部分。此外,所述掩模可具有透光性部分,所述透光性部分具有例如聚焦元件和/或棱柱元件等结构。
公开/授权文献
- CN103038681A 使用具有空间选择性双折射减小的膜的掩模加工 公开/授权日:2013-04-10