曝光装置、光掩模及微元件的制造方法及投影光学装置
Abstract:
一种扫描型曝光装置,使用配置于扫描方向前方侧的第1投影光学系统PL2及配置于扫描方向后方侧的第2投影光学系统PL1,一边改变第1投影光学系统及第2投影光学系统与第1物体M及第2物体P在扫描方向上的位置关系,一边将第1物体的图案转印曝光至第2物体上,且第1投影光学系统及第2投影光学系统分别将第1物体上的视场内的放大像形成于第2物体上的像场内,当将第1投影光学系统及第2投影光学系统的视场的中心彼此在扫描方向上的间隔设为Dm,将第1投影光学系统及第2投影光学系统的像场的中心彼此在上述扫描方向上的间隔设为Dp,且将第1投影光学系统及第2投影光学系统各自的投影倍率设为β时,满足Dp<Dm×|β|(其中,|β|>1)。
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