Invention Grant
- Patent Title: 曝光装置、光掩模及微元件的制造方法及投影光学装置
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Application No.: CN201210455308.6Application Date: 2007-03-16
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Publication No.: CN103019040BPublication Date: 2015-09-16
- Inventor: 加藤正纪
- Applicant: 株式会社尼康
- Applicant Address: 日本东京千代田区有乐町一丁目12番1号
- Assignee: 株式会社尼康
- Current Assignee: 株式会社尼康
- Current Assignee Address: 日本东京千代田区有乐町一丁目12番1号
- Agency: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司
- Agent 寿宁
- Priority: 2006-075853 2006.03.20 JP; 2006-279388 2006.10.13 JP
- The original application number of the division: 2007800057898 2007.03.16
- Main IPC: G03F7/20
- IPC: G03F7/20 ; G02B17/00 ; G02B17/08 ; G02B27/00

Abstract:
一种扫描型曝光装置,使用配置于扫描方向前方侧的第1投影光学系统PL2及配置于扫描方向后方侧的第2投影光学系统PL1,一边改变第1投影光学系统及第2投影光学系统与第1物体M及第2物体P在扫描方向上的位置关系,一边将第1物体的图案转印曝光至第2物体上,且第1投影光学系统及第2投影光学系统分别将第1物体上的视场内的放大像形成于第2物体上的像场内,当将第1投影光学系统及第2投影光学系统的视场的中心彼此在扫描方向上的间隔设为Dm,将第1投影光学系统及第2投影光学系统的像场的中心彼此在上述扫描方向上的间隔设为Dp,且将第1投影光学系统及第2投影光学系统各自的投影倍率设为β时,满足Dp<Dm×|β|(其中,|β|>1)。
Public/Granted literature
- CN103019040A 曝光装置、光掩模及微元件的制造方法及投影光学装置 Public/Granted day:2013-04-03
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IPC分类: