• Patent Title: 转印用施主基板及使用其的器件的制造方法、及有机EL元件
  • Patent Title (English): Donor substrate for transfer, device manufacturing method using the substrate, and organic el element
  • Application No.: CN201180035007.1
    Application Date: 2011-07-12
  • Publication No.: CN103004291A
    Publication Date: 2013-03-27
  • Inventor: 梅原正明谷村宁昭藤森茂雄
  • Applicant: 东丽株式会社
  • Applicant Address: 日本东京都
  • Assignee: 东丽株式会社
  • Current Assignee: 东丽株式会社
  • Current Assignee Address: 日本东京都
  • Agency: 北京市金杜律师事务所
  • Agent 杨宏军; 王大方
  • Priority: 2010-160315 2010.07.15 JP
  • International Application: PCT/JP2011/065874 2011.07.12
  • International Announcement: WO2012/008443 JA 2012.01.19
  • Date entered country: 2013-01-15
  • Main IPC: H05B33/10
  • IPC: H05B33/10 H01L51/50 H05B33/12 H05B33/22
转印用施主基板及使用其的器件的制造方法、及有机EL元件
Abstract:
本发明提供一种具有基板和光热转换层、且光热转换层的表面为粗糙面的转印用施主基板。由此,形成均匀的转印材料的膜,能够制造可形成高精度的细微图案的器件。另外,本发明还提供一种有机EL元件,所述有机EL元件的有机化合物层的至少一部分使用转印法形成,发光区域的发光亮度不均或膜厚不均少。由此,能够提供耐久性也优异的有机EL元件。
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