- 专利标题: 一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置
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申请号: CN201210488029.X申请日: 2012-11-07
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公开(公告)号: CN102950540B公开(公告)日: 2014-10-15
- 发明人: 吴庆堂 , 聂凤明 , 郭波 , 康战 , 刘振栓 , 吴焕 , 王凯 , 魏巍 , 修冬 , 陈洪海 , 卢政宇 , 胡宝共 , 张维杰
- 申请人: 长春设备工艺研究所
- 申请人地址: 吉林省长春市朝阳区湖光路738号
- 专利权人: 长春设备工艺研究所
- 当前专利权人: 长春设备工艺研究所
- 当前专利权人地址: 吉林省长春市朝阳区湖光路738号
- 主分类号: B24B41/00
- IPC分类号: B24B41/00
摘要:
本发明公开了一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置,应用于中大口径光学元件主动高速抛光加工,由主体、转轴支座、球面轴承、销、套、滑座、滑块、直线导轨、连接板组成止转的导轨滑块装置,转轴支座固定在主体上,滑座与转轴支座通过套及销进行轴向连接,在铰接处采用球面轴承连接,使转轴支座通过微小的转动,消除抛光头主体在平面方向与直线导轨的不平度误差;这种滑块结构的直线运动,在限制抛光头主体的旋转运动的同时,提高了主轴旋转公转速度以及抛光头抛光轴的主动自转速度,改善了运动平稳性,加工中可以得到最大的去除函数,满足抛光盘高速回转快速抛光时抑制振动的要求。
公开/授权文献
- CN102950540A 一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置 公开/授权日:2013-03-06