Invention Grant
- Patent Title: 粒子束流照射装置和所述粒子束流照射装置的控制方法
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Application No.: CN201180018380.6Application Date: 2011-02-07
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Publication No.: CN102858407BPublication Date: 2015-11-25
- Inventor: 井关康 , 塙胜词 , 前田一尚 , 角谷畅一 , 古川卓司 , 稻庭拓 , 佐藤真二 , 野田耕司
- Applicant: 株式会社东芝 , 国立研究开发法人放射线医学综合研究所
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 株式会社东芝,国立研究开发法人放射线医学综合研究所
- Current Assignee: 东芝能源系统株式会社,国立研究开发法人,量子科学技术研究开发机构
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 永新专利商标代理有限公司
- Agent 陈松涛; 王英
- Priority: 2010-028047 2010.02.10 JP
- International Application: PCT/JP2011/052523 2011.02.07
- International Announcement: WO2011/099449 JA 2011.08.18
- Date entered country: 2012-10-10
- Main IPC: A61N5/10
- IPC: A61N5/10 ; G21K5/04 ; G01T1/29

Abstract:
本发明提供一种粒子束流照射装置,其能够用简单的结构在扫描期间测量并显示剂量的二维分布,同时减少粒子束流形状的劣化。根据本发明的所述粒子束流照射装置包括:束流产生部分,其产生粒子束流;束流发射控制部分,其控制所述粒子束流的发射;束流扫描部分,其二维地扫描所述粒子束流;传感器部分,其包括多个在第一方向上平行布置的第一线电极和多个在垂直于所述第一方向的第二方向上平行布置的第二线电极;束流形状计算部分,其根据从每个所述第一线电极输出的第一信号和从每个所述第二线电极输出的第二信号计算粒子束流的重心,并且得到所述重心周围的所述粒子束流的二维束流形状;存储部分,其累积并存储所述二维束流形状;以及显示部分,其显示所述二维束流形状,作为剂量的二维分布。
Public/Granted literature
- CN102858407A 粒子束流照射装置和所述粒子束流照射装置的控制方法 Public/Granted day:2013-01-02
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