一种化合物半导体薄膜的自组装生长方法
摘要:
本发明提供了一种化合物半导体薄膜自组装生长方法,包括如下步骤:在衬底上预通入金属源反应物,高温下分解形成一金属薄层;退火形成金属岛状颗粒;通入III族和V族反应物,并控制V/III比范围在50~200之间,温度在800~1000℃之间,利用金属岛状颗粒作为生长催化剂,沿金属岛纵向生长纳米柱;提高温度至1050~1100℃之间并增加V/III比至1000~2000之间,使纳米柱顶部的侧向生长加快,形成连续的半导体薄膜。
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