发明授权
- 专利标题: 一种投影光刻物镜
- 专利标题(英): Projection lithography objective lens
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申请号: CN201110081501.3申请日: 2011-03-31
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公开(公告)号: CN102736221B公开(公告)日: 2015-02-11
- 发明人: 武珩 , 刘国淦
- 申请人: 上海微电子装备有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号
- 专利权人: 上海微电子装备有限公司
- 当前专利权人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号
- 代理机构: 北京连和连知识产权代理有限公司
- 代理商 王光辉
- 主分类号: G02B13/18
- IPC分类号: G02B13/18 ; G02B13/22 ; G02B13/00 ; G02B1/00 ; G03F7/20
摘要:
一种投影光刻物镜,把物面的图像聚焦成像在像面上,从物面开始沿光轴依次包括:一具有正光焦度的第一透镜组G11;一具有负光焦度的第二透镜组G12;一具有正光焦度的第三透镜组G13;以及一具有负光焦度的第四透镜组G14;其中,所述透镜组G11、G12、G13、G14满足以下关系:0.09<|f2/f1|<0.250.09<|f3/f4|<0.250.90<|f3/f2|<1.1其中:f1:第一透镜组G11的焦距;f2:第二透镜组G12的焦距;f3:第三透镜组G13的焦距;f4:第四透镜组G14的焦距。本发明以较少数量的镜片,不包含非球面的简单结构,能够实现所需的微米级的分辨率,并且校正同等视场范围内畸变、像散、色差,为物方及像方留有更大的工作距离。
公开/授权文献
- CN102736221A 一种投影光刻物镜 公开/授权日:2012-10-17