发明授权
CN102702534B 一种可阳离子光固化的高折射率环氧有机硅氧烷及其制备方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 一种可阳离子光固化的高折射率环氧有机硅氧烷及其制备方法
- 专利标题（英）： Cationically-photocurable epoxy high-refractivity organosiloxane and preparation method thereof
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申请号： CN201210157383.4申请日： 2012-05-21
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公开(公告)号： CN102702534B公开(公告)日： 2014-05-14
- 发明人: 王涛 , 叶辉 , 张贤顺
- 申请人： 北京化工大学
- 申请人地址： 北京市朝阳区北三环东路15号北京化工大学
- 专利权人： 北京化工大学
- 当前专利权人： 北京化工大学
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区北三环东路15号北京化工大学
- 主分类号： C08G77/388
- IPC分类号： C08G77/388 ; C08G77/38 ; C07F7/21 ; C08G59/20 ; C08J3/28 ; C08J3/24
摘要：
本发明涉及一种可阳离子光固化的高折射率环氧有机硅氧烷的制备方法和在折射率要求较高的材料领域的应用。该发明将含氢环四硅氧烷或含氢硅油分别与N-烯基咔唑和4-烯基环氧环己烷反应制备含咔唑和环氧基团的高折射率有机硅氧烷。此发明克服了现有有机硅氧烷折射率过低的缺陷，提供一种折射率高、光固化速率快、固化后热稳定性和抗水性好的可阳离子光固化的环氧有机硅氧烷。
公开/授权文献
- CN102702534A 一种可阳离子光固化的高折射率环氧有机硅氧烷及其制备方法 公开/授权日：2012-10-03
