发明授权
CN102701144B 一种刻蚀多层石墨烯的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 一种刻蚀多层石墨烯的方法
- 专利标题（英）： Method for etching multilayer graphene
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申请号： CN201210213819.7申请日： 2012-06-25
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公开(公告)号： CN102701144B公开(公告)日： 2015-04-15
- 发明人: 魏子钧 , 叶天扬 , 胡保东 , 傅云义 , 黄如 , 张兴
- 申请人： 北京大学
- 申请人地址： 北京市海淀区颐和园路5号
- 专利权人： 北京大学
- 当前专利权人： 北京大学
- 当前专利权人地址： 北京市海淀区颐和园路5号
- 代理机构： 北京万象新悦知识产权代理事务所
- 代理商 贾晓玲
- 主分类号： B81C1/00
- IPC分类号： B81C1/00
摘要：
本发明公开了一种刻蚀多层石墨烯的方法，可用于实现多层石墨烯中不同层内同步刻蚀。本发明利用金属纳米颗粒对石墨烯的催化刻蚀作用来实现多层石墨烯的同步刻蚀，对不同层石墨烯进行刻蚀，且各层的刻蚀图形互不影响，并可以对多层石墨烯中的若干层进行选择性地刻蚀。刻蚀形成原子尺度光滑平整、手性一致的石墨烯边缘。
公开/授权文献
- CN102701144A 一种刻蚀多层石墨烯的方法 公开/授权日：2012-10-03
