Invention Grant
CN102692815B 光掩模及其制造方法
失效 - 权利终止
- Patent Title: 光掩模及其制造方法
- Patent Title (English): Photomask and method for manufacturing same
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Application No.: CN201210162265.2Application Date: 2012-05-23
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Publication No.: CN102692815BPublication Date: 2014-05-21
- Inventor: 叶冬 , 徐亮
- Applicant: 深圳市华星光电技术有限公司
- Applicant Address: 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号
- Assignee: 深圳市华星光电技术有限公司
- Current Assignee: 深圳市华星光电技术有限公司
- Current Assignee Address: 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号
- Agency: 深圳翼盛智成知识产权事务所
- Agent 欧阳启明
- Main IPC: G03F1/46
- IPC: G03F1/46 ; G03F1/48
Abstract:
本发明提供一种光掩模及其制造方法，光掩模的制造方法包括：形成不透光图案层于基板上；形成覆盖于所述不透光图案层及所述基板上的保护层；以及形成覆盖在所述保护层上的减反射层，且所述保护层的折射率是大于所述减反射层的折射率。本发明可改善现有光掩模的基板反射问题。
Public/Granted literature
- CN102692815A 光掩模及其制造方法 Public/Granted day:2012-09-26
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