表面改性纳米磨料硅片抛光液
摘要:
本发明公开一种可降低抛光表面粗糙度、清洗方便的表面改性纳米磨料硅片抛光液,由表面改性纳米磨料、两性表面活性剂、高分子表面活性剂、含氮羧酸类螯合剂、有机胺及纯水组成,pH值为10.0~12.0,各原料的质量百分比为:表面改性纳米磨料5%~50%,两性表面活性剂1%~5%,高分子表面活性剂1%~5%,含氮羧酸类螯合剂0.5%~5%,有机胺1%~10%,纯水余量,所述表面改性纳米磨料是采用SiO2或Al2O3将有机聚合物粒子表面改性而形成的复合聚合物粒子,粒径为200~2000nm。
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