发明授权
- 专利标题： 垂直整合的处理腔室
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申请号： CN201080049075.9申请日： 2010-10-28
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公开(公告)号： CN102598240B公开(公告)日： 2016-09-28
- 发明人: 唐纳德·J·K·奥尔加多
- 申请人： 应用材料公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 应用材料公司
- 当前专利权人： 应用材料公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理商 徐金国
- 优先权： 61/255,731 2009.10.28 US; 61/255,703 2009.10.28 US
- 国际申请： PCT/US2010/054508 2010.10.28
- 国际公布： WO2011/059749 EN 2011.05.19
- 进入国家日期： 2012-04-27
- 主分类号： H01L21/673
- IPC分类号： H01L21/673 ; H01L21/677
摘要：
本发明描述对大体上呈垂直定向的基板进行等离子体处理的方法和设备。基板被定位在承载件上，所述承载件包括至少两个大体上垂直定向的框架。所述承载件设置在等离子体腔室中，所述等离子体腔室具有定位在基板间的天线结构。多个等离子体腔室可耦接至具有转盘的传送腔室，所述转盘将承载件引导至目标腔室。装载器将基板在承载件与负载锁定腔室之间进行移动，在所述负载锁定腔室中基板被设置为大体上水平的位向。
公开/授权文献
- CN102598240A 垂直整合的处理腔室 公开/授权日：2012-07-18
IPC分类:
