发明授权
- 专利标题: 一种图案化透明电极的制备方法
- 专利标题(英): Patterned transparent electrode fabrication method
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申请号: CN201110421592.0申请日: 2011-12-16
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公开(公告)号: CN102543303B公开(公告)日: 2013-12-11
- 发明人: 陈新江 , 周红波
- 申请人: 苏州汉纳材料科技有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市星湖街218号生物纳米科技园A4-508室
- 专利权人: 苏州汉纳材料科技有限公司
- 当前专利权人: 桐乡市培隆经贸有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市星湖街218号生物纳米科技园A4-508室
- 主分类号: H01B13/00
- IPC分类号: H01B13/00 ; H01B5/14
摘要:
本发明公开了一种图案化透明电极的制备方法,包括以下步骤:(1)将导电纳米材料分散液在上设有负图案掩膜的多孔滤膜上进行沉积处理获得附着在其上的图案化透明导电膜,该分散液的组成为:导电纳米材料为0.01wt%~5wt%、分散剂为0.1wt%~20wt%,余量为水,所述分散剂为表面活性剂、有机酸、高分子多糖和DNA大分子中的任意一种或多种组合;(2)移除所述掩膜,然后将所述多孔滤膜上的图案化透明导电膜转移贴附于透明基底上,再移除所述多孔滤膜,即可制备得图案化透明电极。该方法具有工序简便、成本低廉的特点,且该方法使原料的选择范围变大,同时所形成的图案能依据需要进行精确设计和调控。
公开/授权文献
- CN102543303A 一种图案化透明电极的制备方法 公开/授权日:2012-07-04