发明公开
CN102510669A 一种基板铜面的化学清洗方法
无效 - 驳回
- 专利标题: 一种基板铜面的化学清洗方法
- 专利标题(英): Method for chemically cleaning copper surface of substrate
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申请号: CN201110353549.5申请日: 2011-11-09
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公开(公告)号: CN102510669A公开(公告)日: 2012-06-20
- 发明人: 罗建军
- 申请人: 金悦通电子(翁源)有限公司
- 申请人地址: 广东省韶关市翁源官渡经济开发试验区翁城工业园
- 专利权人: 金悦通电子(翁源)有限公司
- 当前专利权人: 金悦通电子(翁源)有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省韶关市翁源官渡经济开发试验区翁城工业园
- 代理机构: 广州新诺专利商标事务所有限公司
- 代理商 华辉
- 主分类号: H05K3/00
- IPC分类号: H05K3/00 ; H05K3/26 ; C23F1/46
摘要:
本发明属于基板加工技术领域,具体公开了一种基板铜面的化学清洗方法。它包括除油步骤、第一次溢流水洗步骤、微蚀步骤、第二次溢流水洗步骤、以及烘干步骤,在所述第一次溢流水洗步骤和微蚀步骤之间增加一除水步骤,在所述微蚀步骤的微蚀过程中不断回收硫酸铜,并根据微蚀液中各种成分的浓度变化补充微蚀液。本发明通过在微蚀之前除水、不断回收硫酸铜、以及补充微蚀液,从而使得微蚀液使用寿命可长达6个月,而且通过硫酸铜的回收,大大降低了生产成本。