发明公开
- 专利标题: 形成碲烷氧化物的方法和形成混合的碲卤化物-烷氧化物的方法
- 专利标题(英): Methods of forming a tellurium alkoxide and methods of forming a mixed halide-alkoxide of tellurium
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申请号: CN201080016721.1申请日: 2010-03-24
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公开(公告)号: CN102395528A公开(公告)日: 2012-03-28
- 发明人: 斯特凡·乌伦布罗克
- 申请人: 美光科技公司
- 申请人地址: 美国爱达荷州
- 专利权人: 美光科技公司
- 当前专利权人: 美光科技公司
- 当前专利权人地址: 美国爱达荷州
- 代理机构: 北京律盟知识产权代理有限责任公司
- 代理商 宋献涛
- 优先权: 12/424,411 2009.04.15 US
- 国际申请: PCT/US2010/028510 2010.03.24
- 国际公布: WO2010/120459 EN 2010.10.21
- 进入国家日期: 2011-10-13
- 主分类号: C01B19/00
- IPC分类号: C01B19/00
摘要:
本发明揭示一种形成碲烷氧化物的方法,其包括提供存于液体有机溶剂中的碲卤化物和非碲烷氧化物。所述液体有机溶剂具有若存在则摩尔数少于存于所述液体有机溶剂中的碲卤化物的摩尔数的醇。使存于所述液体有机溶剂内的所述碲卤化物与所述非碲烷氧化物反应以形成反应产物卤化物和碲烷氧化物。从所述反应产物卤化物和所述碲烷氧化物移除所述液体有机溶剂以留下包含所述反应产物卤化物和所述碲烷氧化物的液体和/或固体混合物。有效加热所述混合物以便从所述反应产物卤化物气化所述碲烷氧化物。本发明还揭示其它实施方案,包括形成混合的碲卤化物-烷氧化物的方法。