发明授权
CN102365589B 曝光方法及曝光装置
失效 - 权利终止
- 专利标题： 曝光方法及曝光装置
- 专利标题（英）： Exposure method and exposure apparatus
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申请号： CN201080014236.0申请日： 2010-03-17
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公开(公告)号： CN102365589B公开(公告)日： 2014-03-26
- 发明人: 梶山康一
- 申请人： 株式会社V技术
- 申请人地址： 日本国神奈川县
- 专利权人： 株式会社V技术
- 当前专利权人： 株式会社V技术
- 当前专利权人地址： 日本国神奈川县
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 雒运朴
- 优先权： 2009-090617 2009.04.03 JP
- 国际申请： PCT/JP2010/054565 2010.03.17
- 国际公布： WO2010/113644 JA 2010.10.07
- 进入国家日期： 2011-09-28
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/027
摘要：
本发明公开一种曝光方法及曝光装置，其中一边将被曝光体(8)沿箭头A方向输送，一边在对使用光掩模(11)的第一掩模图案组12进行的被曝光体(8)的第一曝光区域(9)的曝光结束时使快门(5)与被曝光体(8)的输送速度同步移动遮断光源光，将被曝光体(8)沿箭头D方向返回被曝光体(8)在快门(5)的移动中移动的距离，同时，移动光掩模(11)，切换为第二掩模图案组(13)，当光掩模(11)的掩模图案组的切换结束时，再次启动被曝光体(8)的向箭头A方向的输送，同时将快门(5)与被曝光体(8)的输送速度同步向箭头B方向移动，解除光源光的遮断，执行对第二曝光区域(10)的曝光。由此，提高对同一被曝光体的多种曝光图案的形成效率。
公开/授权文献
- CN102365589A 曝光方法及曝光装置 公开/授权日：2012-02-29
IPC分类:
