发明授权
- 专利标题： 透射电镜微栅及其制备方法
- 专利标题（英）： Transmission electron microscope microgrid and preparation method thereof
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申请号： CN201010219817.X申请日： 2010-07-07
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公开(公告)号： CN102315058B公开(公告)日： 2013-12-11
- 发明人: 林晓阳 , 冯辰 , 张丽娜 , 姜开利
- 申请人： 清华大学 , 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
- 申请人地址： 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室
- 专利权人： 清华大学,鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
- 当前专利权人： 清华大学,鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室
- 主分类号： H01J9/00
- IPC分类号： H01J9/00 ; H01J37/20
摘要：
本发明涉及一种透射电镜微栅，包括一载体，该载体包括至少一个通孔，其中，所述透射电镜微栅进一步包括一覆盖在所述载体的石墨烯层-碳纳米管膜复合结构，该石墨烯层-碳纳米管膜复合结构包括一个石墨烯层和至少一层碳纳米管膜状结构，该碳纳米管膜状结构具有多个微孔，所述石墨烯层覆盖所述多个微孔并通过该多个微孔部分悬空。本发明还涉及一种透射电镜微栅的制备方法。
公开/授权文献
- CN102315058A 透射电镜微栅及其制备方法 公开/授权日：2012-01-11
