发明授权
CN102301448B 半导体制造设备批次控制的背景条件偏差估计方法和系统
失效 - 权利终止
- 专利标题： 半导体制造设备批次控制的背景条件偏差估计方法和系统
- 专利标题（英）： Method and system for estimating context offsets for run-to-run control in a semiconductor fabrication facility
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申请号： CN201080006153.7申请日： 2010-01-28
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公开(公告)号： CN102301448B公开(公告)日： 2014-07-02
- 发明人: 邹建平
- 申请人： 应用材料公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 应用材料公司
- 当前专利权人： 应用材料公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理商 徐金国
- 优先权： 12/362,384 2009.01.29 US
- 国际申请： PCT/US2010/022446 2010.01.28
- 国际公布： WO2010/088421 EN 2010.08.05
- 进入国家日期： 2011-07-29
- 主分类号： G05B19/418
- IPC分类号： G05B19/418
摘要：
描述了半导体制造设备批次控制的背景条件偏差估计方法和系统。在一个实施例中，识别与过程相关的背景条件。过程具有一个或多个线程，每个线程包括一个或多个背景条件。定义输入输出方程组。每个输入输出方程对应于一线程并且包括线程偏差，所述线程偏差表示为单独背景条件偏差的总和。使用输入输出方程组来建立状态-空间模型，所述状态空间模型描述过程的发展。状态空间模型可以估计单独背景条件偏差。
公开/授权文献
- CN102301448A 半导体制造设备批次控制的背景条件偏差估计方法和系统 公开/授权日：2011-12-28
IPC分类:
