Invention Grant
CN102301448B 半导体制造设备批次控制的背景条件偏差估计方法和系统
失效 - 权利终止
- Patent Title: 半导体制造设备批次控制的背景条件偏差估计方法和系统
- Patent Title (English): Method and system for estimating context offsets for run-to-run control in a semiconductor fabrication facility
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Application No.: CN201080006153.7Application Date: 2010-01-28
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Publication No.: CN102301448BPublication Date: 2014-07-02
- Inventor: 邹建平
- Applicant: 应用材料公司
- Applicant Address: 美国加利福尼亚州
- Assignee: 应用材料公司
- Current Assignee: 应用材料公司
- Current Assignee Address: 美国加利福尼亚州
- Agency: 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- Agent 徐金国
- Priority: 12/362,384 2009.01.29 US
- International Application: PCT/US2010/022446 2010.01.28
- International Announcement: WO2010/088421 EN 2010.08.05
- Date entered country: 2011-07-29
- Main IPC: G05B19/418
- IPC: G05B19/418
Abstract:
描述了半导体制造设备批次控制的背景条件偏差估计方法和系统。在一个实施例中，识别与过程相关的背景条件。过程具有一个或多个线程，每个线程包括一个或多个背景条件。定义输入输出方程组。每个输入输出方程对应于一线程并且包括线程偏差，所述线程偏差表示为单独背景条件偏差的总和。使用输入输出方程组来建立状态-空间模型，所述状态空间模型描述过程的发展。状态空间模型可以估计单独背景条件偏差。
Public/Granted literature
- CN102301448A 半导体制造设备批次控制的背景条件偏差估计方法和系统 Public/Granted day:2011-12-28
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IPC分类:
