发明授权
CN102214587B 制作多层式阵列型发光二极管的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 制作多层式阵列型发光二极管的方法
- 专利标题(英): Method for manufacturing multi-layer array type light emitting diode
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申请号: CN201010141869.X申请日: 2010-04-08
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公开(公告)号: CN102214587B公开(公告)日: 2012-10-17
- 发明人: 胡仲孚 , 吴永富
- 申请人: 盈胜科技股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹县
- 专利权人: 盈胜科技股份有限公司
- 当前专利权人: 盈胜科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹县
- 代理机构: 北京华夏博通专利事务所
- 代理商 刘俊
- 主分类号: H01L21/50
- IPC分类号: H01L21/50 ; H01L21/48 ; H01L21/56 ; H01L21/58 ; H01L21/60 ; H01L33/62
摘要:
本发明公开了一种制作多层式阵列型发光二极管的方法,首先一基板经一适当方法制成,两导线架定位于该基板的导线架容置槽中,接着射出成型一封装模块以将该基板与两导线架包埋固定,接着将所述发光二极管晶粒配置于该基板的出光区表面上,再使所述二极管发光晶粒与该两导线架形成一电性回路,在该发光二极管上依序形成保护层及荧光层,最后直接射出透镜罩在封装模块上,其中所述发光二极管能用阵列排列的方式配置于该基板上,又本发明是以层叠式方式的封装方法制成多层式阵列型发光二极管。
公开/授权文献
- CN102214587A 制作多层式阵列型发光二极管的方法 公开/授权日:2011-10-12
IPC分类: