发明公开
CN102214506A 一种制备氧化硅@硅酸锌@氧化硅三层同轴纳米电缆的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种制备氧化硅@硅酸锌@氧化硅三层同轴纳米电缆的方法
- 专利标题(英): Method for preparing silicon oxide@zinc silicate@silicon oxide three-layer coaxial nano cable
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申请号: CN201110057921.8申请日: 2011-03-11
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公开(公告)号: CN102214506A公开(公告)日: 2011-10-12
- 发明人: 董相廷 , 徐淑芝 , 盖广清 , 王进贤 , 刘桂霞
- 申请人: 长春理工大学
- 申请人地址: 吉林省长春市朝阳区卫星路7089号
- 专利权人: 长春理工大学
- 当前专利权人: 长春理工大学
- 当前专利权人地址: 吉林省长春市朝阳区卫星路7089号
- 主分类号: H01B13/016
- IPC分类号: H01B13/016
摘要:
本发明涉及一种制备氧化硅@硅酸锌@氧化硅三层同轴纳米电缆的方法,属于纳米材料制备技术领域。本发明包括三个步骤:(1)配制纺丝液。将PVP和正硅酸乙酯TEOS加入到无水乙醇和氯仿的混合溶剂中,形成芯层和壳层纺丝液;将PVP和六水硝酸锌Zn(NO3)2·6H2O加入到N,N-二甲基甲酰胺和甘油C3H8O3的混合溶剂中,形成中间层纺丝液。(2)制备[TEOS+PVP]@[Zn(NO3)2+PVP+C3H8O3]@[TEOS+PVP]前驱体复合同轴电缆。采用同轴静电纺丝技术,使用三层同轴喷丝头,电压为12kV,固化距离为15cm,室温15℃-18℃,相对湿度为45%-50%。(3)制备SiO2@Zn2SiO4@SiO2三层同轴纳米电缆。将前驱体复合同轴电缆进行热处理,升温速率为1℃/min,在900℃保温8h,然后以1℃/min的速度降至200℃后自然冷却至室温,得到SiO2(芯层)@Zn2SiO4(中间层)@SiO2(壳层)三层同轴纳米电缆,直径为600nm-700nm,长度>100μm。
公开/授权文献
- CN102214506B 一种制备氧化硅@硅酸锌@氧化硅三层同轴纳米电缆的方法 公开/授权日:2012-10-03