Invention Grant
- Patent Title: 压电薄膜、压电器件、液体喷射装置、及制备压电薄膜的方法
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Application No.: CN201110057145.1Application Date: 2011-03-03
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Publication No.: CN102194670BPublication Date: 2017-03-01
- Inventor: 直野崇幸
- Applicant: 富士胶片株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 富士胶片株式会社
- Current Assignee: 富士胶片株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 永新专利商标代理有限公司
- Agent 过晓东; 谭邦会
- Priority: 046802/2010 2010.03.03 JP
- Main IPC: H01L41/08
- IPC: H01L41/08 ; H01L41/09 ; H01L41/187 ; H01L41/316 ; B41J2/14 ; B41J2/16

Abstract:
压电薄膜、压电器件、液体喷射装置、及制备压电薄膜的方法。一种压电薄膜,所述压电薄膜通过汽相沉积方法在基板表面上形成,没有产生晶粒边界,该晶粒边界基本上平行于基板表面,并且是由层叠引起的。构成压电薄膜的每个晶体的(100)平面的法线与基板表面法线的倾斜角度不小于6°且不大于36°。
Public/Granted literature
- CN102194670A 压电薄膜、压电器件、液体喷射装置、及制备压电薄膜的方法 Public/Granted day:2011-09-21
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IPC分类: