本发明提供一种带电粒子多子束系统，用于使用多个子束对目标(11)进行曝光。该系统包括用于生成带电粒子波束(20)的带电粒子源(1)、用于定义来自所生成波束的多组子束(23)的子束孔径阵列(4D)、包括了用于可控地阻断子束(23)的阻断器的阵列的子束阻断器阵列(6)、用于阻断由阻断器偏转的子束(23)的波束终止阵列(8)，该波束终止阵列(8)包括孔径阵列，每个波束终止孔径对应于一个或多个阻断器，以及用于将子束投影到目标表面上的投影透镜系统的阵列(10)。该系统使源(1)成像到波束终止阵列(8)的平面上、投影透镜系统的有效透镜平面处的平面上、或在波束终止阵列(8)和投影透镜系统(10)的有效透镜平面之间的平面上，并且该系统将子束孔径阵列(4D)成像到目标(11)上。