液晶面板的曝光工序及其掩膜
摘要:
本发明公开一种液晶面板的曝光工序,用于制造若干个液晶面板的曝光机,包含下列步骤:以具有对应后续若干道掩膜的若干套对位标记的第一道掩膜,对制造所述若干个液晶面板的玻璃基板进行曝光,在所述玻璃基板上形成对应后续若干道掩膜的若干套对位标记;以及依据所述后续若干道掩膜的顺序,分别利用所述若干套对位标记,进行后续各道掩膜与所述玻璃基板上,分别对应所述后续各道掩膜的所述若干套对位标记的对位工序、曝光工序,以形成图案;其中对应同一个液晶面板区域,所述后续各道掩膜所需的所述若干套对位标记,在所述玻璃基板上分别具有不同的坐标位置。
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