发明授权
- 专利标题: 液晶面板的曝光工序及其掩膜
- 专利标题(英): Exposure procedure of liquid crystal panels and mask
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申请号: CN201010575581.3申请日: 2010-12-03
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公开(公告)号: CN102096328B公开(公告)日: 2012-11-21
- 发明人: 张才力
- 申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
- 申请人地址: 广东省深圳市南山区高新南一路TCL大厦A座7F
- 专利权人: 深圳市华星光电技术有限公司
- 当前专利权人: 深圳市华星光电技术有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市南山区高新南一路TCL大厦A座7F
- 代理机构: 深圳翼盛智成知识产权事务所
- 代理商 欧阳启明
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20 ; G03F1/42 ; G02F1/1333
摘要:
本发明公开一种液晶面板的曝光工序,用于制造若干个液晶面板的曝光机,包含下列步骤:以具有对应后续若干道掩膜的若干套对位标记的第一道掩膜,对制造所述若干个液晶面板的玻璃基板进行曝光,在所述玻璃基板上形成对应后续若干道掩膜的若干套对位标记;以及依据所述后续若干道掩膜的顺序,分别利用所述若干套对位标记,进行后续各道掩膜与所述玻璃基板上,分别对应所述后续各道掩膜的所述若干套对位标记的对位工序、曝光工序,以形成图案;其中对应同一个液晶面板区域,所述后续各道掩膜所需的所述若干套对位标记,在所述玻璃基板上分别具有不同的坐标位置。
公开/授权文献
- CN102096328A 液晶面板的曝光工序及其掩膜 公开/授权日:2011-06-15
IPC分类: