发明公开
- 专利标题: 光信息记录介质用反射膜及光信息记录介质反射膜形成用溅射靶材
- 专利标题(英): Reflecting film for optical information recording medium, and sputtering target for forming reflecting film for optical information recording medium
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申请号: CN200980125743.9申请日: 2009-09-03
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公开(公告)号: CN102084421A公开(公告)日: 2011-06-01
- 发明人: 兹幸范洋 , 中井淳一 , 田内裕基
- 申请人: 株式会社神户制钢所
- 申请人地址: 日本兵库县
- 专利权人: 株式会社神户制钢所
- 当前专利权人: 株式会社神户制钢所
- 当前专利权人地址: 日本兵库县
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 张宝荣
- 优先权: 2008-228902 2008.09.05 JP
- 国际申请: PCT/JP2009/065431 2009.09.03
- 国际公布: WO2010/027026 JA 2010.03.11
- 进入国家日期: 2010-12-31
- 主分类号: G11B7/258
- IPC分类号: G11B7/258
摘要:
本发明提供反射膜表面高精度再现形成于基板上的凹槽或凹点等,实现光信息记录介质的噪声的减小,并且具有高的反射率的Al基合金反射膜,以及对形成这样的反射膜有用的溅射靶材。本发明的光信息记录介质用反射膜用于光信息记录介质,实质上由含有2.0~15.0原子%的稀土类元素的Al基合金形成,反射膜的厚度方向的微晶尺寸为30nm以下。
公开/授权文献
- CN102084421B 光信息记录介质用反射膜 公开/授权日:2014-03-12
IPC分类: