发明授权
- 专利标题: 一种相息图合成优化方法
- 专利标题(英): Method for synthesizing and optimizing kinoform
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申请号: CN201110000208.X申请日: 2011-01-04
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公开(公告)号: CN102074002B公开(公告)日: 2012-08-29
- 发明人: 杨光临 , 郑瑞峰
- 申请人: 北京大学
- 申请人地址: 北京市海淀区颐和园路5号
- 专利权人: 北京大学
- 当前专利权人: 北京大学
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区颐和园路5号
- 代理机构: 北京万象新悦知识产权代理事务所
- 代理商 贾晓玲
- 主分类号: G06T5/50
- IPC分类号: G06T5/50 ; G06N3/12
摘要:
本发明提供了一种相息图合成优化方法,该方法基于遗传算法。本发明提供的技术方案为:给原始图像加上一组随机相位掩膜;优化该掩膜;当达到优化条件时,具有最小代价函数的相位掩膜为最佳的掩膜,其对应的相息图即为所求的相息图。本发明通过优化掩膜的方法达到间接优化相息图的目的。本方法通过直接优化该随机相位掩膜,降低再现像的误差,从而达到优化相息图的目的。在遗传算法的选择环节,采用精英保留方法,其能够保留种群优秀解,能够加快收敛速度,且易于实现。和传统优化方法相比本发明提供的方法具有初始代价函数小,优化速度快,优化效果好等优点。
公开/授权文献
- CN102074002A 一种相息图合成优化方法 公开/授权日:2011-05-25