- 专利标题: 用于等离子体室的电极的非对称性射频驱动装置
- 专利标题(英): Asymmetrical RF drive for electrode of plasma chamber
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申请号: CN200880124338.0申请日: 2008-12-24
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公开(公告)号: CN101911840B公开(公告)日: 2013-04-17
- 发明人: 乔瑟夫·库德拉 , 卡尔·A·索伦森 , 崔寿永 , 约翰·M·怀特
- 申请人: 应用材料公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 应用材料公司
- 当前专利权人: 应用材料公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理商 徐金国; 钟强
- 优先权: 61/016,592 2007.12.25 US
- 国际申请: PCT/US2008/088265 2008.12.24
- 国际公布: WO2009/082753 EN 2009.07.02
- 进入国家日期: 2010-07-08
- 主分类号: H05H1/34
- IPC分类号: H05H1/34 ; H01L21/3065
摘要:
RF功率耦合至等离子体室的电极上的一个或多个RF驱动点,使得耦合至电极的较靠近该工件通道的半部上的RF功率值超过耦合至该电极的另一半部上多个RF驱动点(如果有的话)的RF功率值。或者,RF功率耦合至等离子体室的电极上一个或多个RF驱动点,使得这些驱动点位置的加权平均在该电极中心与该工件通道之间。该加权平均是利用耦合至该驱动点位置的RF功率的时间平均值来加权每个驱动点位置所计算而得。本发明抵消掉在邻近电极最靠近通道的末端处的等离子体密度的增加,否则在邻近电极最靠近通道的末端处将存在等离子体密度增加的现象。
公开/授权文献
- CN101911840A 用于等离子体室的电极的非对称性射频驱动装置 公开/授权日:2010-12-08
IPC分类: