- 专利标题: 晶体织构化的金属衬底、晶体织构化的器件、包括这样的器件的电池和光伏模块以及薄层沉积方法
- 专利标题(英): Crystallographically textured metal substrate, crystallographically textured device, cell and photovoltaic module including such device and thin layer deposition method
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申请号: CN200880113563.4申请日: 2008-08-28
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公开(公告)号: CN101842508A公开(公告)日: 2010-09-22
- 发明人: J-P·雷雅尔 , P-L·雷代 , P·罗加卡瓦鲁卡斯 , Y·杰里达内
- 申请人: 安赛乐米塔尔不锈钢及镍合金公司 , 综合工科学校
- 申请人地址: 法国圣但尼
- 专利权人: 安赛乐米塔尔不锈钢及镍合金公司,综合工科学校
- 当前专利权人: 阿佩拉姆合金安菲公司,综合工科学校
- 当前专利权人地址: 法国安菲
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 杨晓光; 于静
- 优先权: 07301336.9 2007.08.31 EP
- 国际申请: PCT/FR2008/051542 2008.08.28
- 国际公布: WO2009/030865 FR 2009.03.12
- 进入国家日期: 2010-04-27
- 主分类号: C22C38/08
- IPC分类号: C22C38/08 ; C23C30/00
摘要:
本发明涉及一种晶体织构化的金属衬底(1),其包括连接表面(2)和用于接收薄层沉积物的表面(3),所述晶体织构化的金属衬底由呈现具有面心的立方晶系和大多数的立方晶体结构{100}的合金构成,所述用于接收薄层沉积物的表面(3)包括晶粒(4),所述晶粒(4)具有平行于所述用于接收薄层沉积物的表面(3)的大多数晶面{100}。根据本发明,所述合金为铁-镍合金,其具有以相对于所述合金的总重量的重量%表示的以下成分:Ni≥30%,Cu<15%,Cr≤15%,Co≤12%,Mn≤5%,S<0.0007%,P<0.003%,B<0.0005%,Pb<0.0001%,镍、铬、铜、钴和锰的百分比为使所述合金满足下列条件:34%≤(Ni+Cr+Cu/2+Co/2+Mn),所述合金包含最高为1重量%的选自硅、镁、铝和钙中的一种或多种的脱氧元素,构成所述合金的平衡元素为铁和杂质。
公开/授权文献
- CN101842508B 晶体织构化的金属衬底、晶体织构化的器件、包括这样的器件的电池和光伏模块以及薄层沉积方法 公开/授权日:2013-05-01