发明授权
CN101792930B 一种(200)择优取向硫化铅薄膜的制备方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种(200)择优取向硫化铅薄膜的制备方法
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申请号: CN200910167920.1申请日: 2009-10-16
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公开(公告)号: CN101792930B公开(公告)日: 2011-12-21
- 发明人: 邓宏 , 陈金菊 , 韦敏 , 李国伟
- 申请人: 电子科技大学
- 申请人地址: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- 专利权人: 电子科技大学
- 当前专利权人: 电子科技大学
- 当前专利权人地址: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- 代理机构: 电子科技大学专利中心
- 代理商 葛启函
- 主分类号: C30B29/46
- IPC分类号: C30B29/46 ; C30B7/14 ; H01L31/032 ; H01L31/18
摘要:
一种(200)择优取向硫化铅薄膜的制备方法,属于电子材料技术领域,涉及半导体光电薄膜及红外光电探测器,具体是指采用化学浴沉积法制备用于近红外光电探测器的(200)择优取向的硫化铅薄膜的方法。本发明采用化学浴沉积法,通过设计反应前驱物溶液的配置流程,严格控制薄膜的初始成核过程,并通过后续的高温敏化过程,获得(200)择优取向的立方晶相硫化铅薄膜。本发明所制备的硫化铅薄膜具有良好的均匀性和光敏特性,可用于近红外光电探测器。本发明整个制备工艺过程简单、易控,制备装置简单、成本低廉。
公开/授权文献
- CN101792930A 一种(200)择优取向硫化铅薄膜的制备方法 公开/授权日:2010-08-04
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