发明公开
- 专利标题: 纯化多晶硅的方法
- 专利标题(英): Process for purifying polycrystalline silicon
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申请号: CN200880103893.5申请日: 2008-08-08
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公开(公告)号: CN101784477A公开(公告)日: 2010-07-21
- 发明人: H·沃赫纳 , C·戈斯曼 , H·林德纳
- 申请人: 瓦克化学股份公司
- 申请人地址: 德国慕尼黑
- 专利权人: 瓦克化学股份公司
- 当前专利权人: 瓦克化学股份公司
- 当前专利权人地址: 德国慕尼黑
- 代理机构: 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 程大军
- 优先权: 102007039626.2 2007.08.22 DE
- 国际申请: PCT/EP2008/060423 2008.08.08
- 国际公布: WO2009/033900 DE 2009.03.19
- 进入国家日期: 2010-02-22
- 主分类号: C01B33/037
- IPC分类号: C01B33/037
摘要:
本发明涉及不使用盐酸和过氧化氢的清洁多晶硅的方法。