发明授权
- 专利标题： 一种清洗晶片容器的方法
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申请号： CN200910148668.X申请日： 2005-04-18
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公开(公告)号： CN101683650B公开(公告)日： 2011-12-21
- 发明人: 安东尼·玛索丝·堤班 , 约翰·里斯塔 , 大卫·L·贺伯麦耳
- 申请人： 安堤格里斯公司
- 申请人地址： 美国明尼苏达州查斯卡黎门大道3500号
- 专利权人： 安堤格里斯公司
- 当前专利权人： 安堤格里斯公司
- 当前专利权人地址： 美国明尼苏达州查斯卡黎门大道3500号
- 代理机构： 北京连和连知识产权代理有限公司
- 代理商 王光辉
- 优先权： 60/563,528 2004.04.18 US; 11/108,619 2005.04.17 US
- 分案原申请号： 200580019675X 2005.04.18
- 主分类号： B08B9/093
- IPC分类号： B08B9/093
摘要：
一种清洗晶片容器的方法，包含下列步骤：选择晶片容器，包含：护孔环具有孔腔，该孔腔具有内表面，该护孔环是由弹性材料所构成，该孔腔界定流路；操作子组件，至少部分地容纳于该孔腔，并与该孔腔的内表面的弹性材料密封接合；该护孔环具有弹性材料，外露于该晶片容器外，该弹性材料提供座面；以清洗管口接合该弹性材料的该座面；利用自该管口的力压缩该弹性材料，藉此密封接合该护孔环与清洗源；及注入清洗气体于该晶片容器。
公开/授权文献
- CN101683650A 一种清洗晶片容器的方法 公开/授权日：2010-03-31
IPC分类:
